国产芯片加速前进，“冰刻技术”迎来突破！

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光刻机是我国芯片制造业一大痛点，目前，在EUV光刻机赛道中，仅有ASML一个玩家。然而，受到《瓦尔森协定》的约束，ASML无法向中国大陆出售EUV光刻机。光刻机的短缺卡住了中国芯片的脖子。


   西湖大学纳米光学与仪器技术实验室负责人仇旻及其团队，已经在该领域攻克8年之久，诸多成绩已经逐渐显现。其已经研发出我国首台“冰刻”系统已经；目前，冰刻系统2.0也在全力研发之中。

仇旻对冰刻技术抱有极大热情，他表示这是项令人激动的新技术。他认为，冰刻技术将解决光刻无法解决的难题，并开辟出全新的科学交叉和研究方向。