中国芯加速！光量子芯片、光刻机光源新突破

名袋富穿

最关键的就是EUV光刻机，这是目前高端芯片制造绕不开的设备，没有它7nm以下制程芯片就无法生产。而EUV光刻机全球只有荷兰ASML公司能够生产。而我国却购买不到，主要是ASML依然受制于美国，因为EUV光刻机最核心的部分，光源的设计和专利都是美国独有，光刻机光源部分20%的核心部件全世界也只有美国能够生产。


   近日，清华大学科研团队研发出了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”（SSMB），并完成了首个原理验证实验，可以获得光刻机所需要的极紫外（EUV）波段，这为大功率EUV光源的突破提供全新的解决思路。清华的这个成果领先世界，

EUV光源正是EUV光刻机的核心基础，如果成功进入到实际应用阶段，那将解决我国在EUV光刻机研发中的关键难题，将大大促进国产EUV光刻机的实现步伐！